真实的国产光刻胶产业，现状到底如何呢？ 一、四类光刻胶，四道门槛 光刻胶的代际差异，本质是制程精度的差异，每缩短一次波长，技术门槛就跃升一个量级： g/i 线光刻胶：对应微米级制程，多用于功率器件、面

众所周知，前段时间国内巨头提出了韬定律，将时间微缩，代替了晶体管微缩，给芯片制程指明了另外一个前进方向。 要知道以前芯片前进的指导是摩尔定律，其核心是微缩晶体管，增加单位面积的晶体管密度，这样来提高性

2018年，郭台铭竞选台湾地方领导人。? 说了一句让星空君到现在都叹为观止的话：一个世界，两套系统。 后面他的解释是（大意），在核心技术领域，中国和欧美会形成不同的体系，各自发展。而台湾的优势是掌握最

近日，美国的一家初创公司xLight近日宣布，公司已在B轮风险融资中筹集了4000万美元（折合人民币约2．9亿元）。该公司旨在将粒子加速器驱动的自由电子激光器（FEL）商业化用于半导体生产。 该公司表

众所周知，过去的这两年，ASML从中国是大赚特赚。 2023年，中国从ASML购买了600多亿光刻机，而2024年，进口的金额高达800多亿元。 如下图所示，这是ASML的财报数据，可以看到202

近日，来自冲绳科学技术大学院大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一项革命性的极紫外（EUV）光刻技术，该技术不仅超越了现有半导体制造的界限，更预示着行业未来的新篇章。

巨人的阿喀琉斯之踵。 文丨华商韬略 美国时间8月2日，英特尔股价暴跌超过26%，市值更是跌破千亿美元历史关口。 2000年，英特尔以3000亿美元的市值傲立科技浪潮之巅。20多年过去，英特尔

众所周知，全球最牛的光刻机厂商，是荷兰的ASML，它垄断了全球90%的光刻机市场，EUV光刻机市场更是高达100%，只有它能够制造。 但ASML表面上看是荷兰的，实际上是被美国控制的，ASML是美国意志的产物，没有美国在背后推动，支持，ASML不可能有如此地位

潮流如暗流，迅猛而至，行业龙头也被冲击的手忙脚乱。当半导体加工的制程微缩游戏走到尽头，先进封装，逐渐成为芯片行业的胜负手。 01 潮流如暗流：黄教主上阵催单，台积电慌忙扩产 年初，任谁也料想不到，今年的半导体产业会如此的冰火两重天

近日，华为Mate 60 Pro手机搭载的麒麟9000S处理器，将公众视线再次聚焦到了国产芯片制造之上。 虽然目前代工厂未知，工艺未知，甚至GPU、CPU核等都有很多未知，但不妨碍大家的兴奋和猜测，

对于半导体行业而言，光刻技术和设备发挥着基础性作用，是必不可少的。 ?所谓光刻，就是将设计好的图形从掩模版转印到晶圆表面的光刻胶上所使用的技术。光刻技术最先应用于印刷工业，之后长期用于制造印刷电路板（PCB），1950年代，随着半导体技术的兴起，光刻技术开始用于制造晶体管和集成电路（IC）

众所周知，目前全球仅有一家厂商，能够生产EUV光刻机，它就是荷兰的ASML。而之所以全球仅此一家，这是因为ASML将很多关键的厂商捆绑在了一起，比如德国光学公司蔡司（Zeiss），再比如美国的Cymer，再比如德国的通快集团（TRUMPF）等

《苹果a12和a13性能差距(苹果a12处理器使用的是7nmEUV的功耗降低了10%)》苹果a12和a13性能差距，在工艺方面，苹果a12处理器使用的是7nm工艺，而a13处理器采用的是7nmEUV工艺。相较于7nm，7nmEUV的功耗降低了10%。在计算性能方面，苹果a12处理器共集成了69亿个晶体管，而a13处理器达到了85亿个晶体管，晶体密度提升了20%。

德国研究人员开发出了一种紧凑的极紫外（EUV）激光模块——可以用来产生特殊的EUV光，它不仅打破了以往EUV光实验只能在昂贵的大型研究设施中进行的限制，还带来了更高的成本效益。

2022年，全球前三大光刻机厂商ASML、Nikon、Canon的光刻机出货量达到551台，较2021年增长15％，增加了73台。其中EUV、ArFi、ArF三个高端机型一共出货157台，而ASML占比高达95％，一共出货149台