针对美国的新一轮制裁，中国这次没有妥协，而是快速反应，开始反击！ 首先是针对镓、锗、锑、石墨等进行管制。然后四大协会倡导大家别购买美国芯片，因为不再安全，不再可靠。还有外交部对美国军工企业及高级管理

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合 三星降本，供应商发愁。 三星电子在其最新的 3D NAND 闪存光刻工艺中减少了厚光刻胶（PR）的使用，让成本大幅节约。然而，这一举措可能会影响其韩国供应商东进世美肯

《港湾商业观察》王璐  作为国家级科研所上市平台，国机通用（600444.SH）前三季度交出的业绩相当亮眼。与此同时，国机通用的核心技术优势也被市场普遍看好。 对于企业价值观方面，国机通

近日，马萨诸塞大学阿默斯特分校的研究团队开创了一种新技术，利用激光照射芯片上的同心超透镜生成全息图，从而实现对3D半导体芯片的精确对齐。

日前，全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布的财报，由于财报数据远低于预期，阿斯麦的股价在短时间内出现了大幅波动，创下了近年来的单日最大跌幅。 阿斯麦发布的财报显示，公司在2024年第三季度的订单额仅为26.3亿欧元，环比下降53%，远低于市场预期的53.9亿欧元

日前媒体报道指出武汉的存储芯片企业已开发出新一代存储芯片技术，再度追平了美国和韩国芯片的技术水平，并且是以国产芯片设备生产的，这代表着中国芯片产业链取得了重大的突破。 早前武汉这家存储芯片企业发

外媒报道指台积电的2纳米工艺已取得了重大突破，将如期在明年量产，凸显出台积电在芯片制造工艺方面仍然居于绝对领先地位，由于拥有无可比拟的技术优势，据称台积电信心十足地对美国芯片开出加码--涨价五成以上。

数年前，中国芯片行业经过深入思考，决定先发展成熟芯片，大举建设芯片工厂，短短数年时间中国的芯片产能占全球芯片的比例就从个位数提升至三成，成为全球最大的芯片生产国，如今开始取得硕果，在先进工艺方面也取得了突破

众所周知，目前在芯片设计、制造、封测环节中，真正门槛最高的是芯片制造。 所以全球真正掌握10nm以下芯片制造技术的厂商，屈指可数，估计也就只有四家，分别是台积电、三星、intel和中芯。 至于其它晶圆厂，没有能力和信心进入10nm以下，比如格芯、联电几年前就表态，不进入10nm以下工艺

目前几乎所有的芯片制造技术，均是基于光刻工艺来的。 而光刻工艺中，最重要的设备，就是光刻机。目前全球仅4家厂商，拥有前道光刻机生产能力，分别是荷兰的ASML、日本的佳能、尼康，中国的上海微电子。

快科技9月5日消息，据国内媒体报道称，ASML CEO公开回应了对华出口限制，他们会有更多应对措施（反击措施）。 荷兰计算机芯片设备供应商ASML首席执行官Christophe Fouquet当地时

?光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。 自1961年第一台光刻机诞生以来，光刻机经历了接触式→接近式→投影式的发展路线，如今以投影式中的步进扫描式光刻机为主流

近日，来自冲绳科学技术大学院大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一项革命性的极紫外（EUV）光刻技术，该技术不仅超越了现有半导体制造的界限，更预示着行业未来的新篇章。

巨人的阿喀琉斯之踵。 文丨华商韬略 美国时间8月2日，英特尔股价暴跌超过26%，市值更是跌破千亿美元历史关口。 2000年，英特尔以3000亿美元的市值傲立科技浪潮之巅。20多年过去，英特尔

以光为刀的光刻技术 引文 光的出现以及每一次发展都是人类社会的一大进步：地球上出现的