外媒报道指台积电的2纳米工艺已取得了重大突破，将如期在明年量产，凸显出台积电在芯片制造工艺方面仍然居于绝对领先地位，由于拥有无可比拟的技术优势，据称台积电信心十足地对美国芯片开出加码--涨价五成以上。

数年前，中国芯片行业经过深入思考，决定先发展成熟芯片，大举建设芯片工厂，短短数年时间中国的芯片产能占全球芯片的比例就从个位数提升至三成，成为全球最大的芯片生产国，如今开始取得硕果，在先进工艺方面也取得了突破

众所周知，目前在芯片设计、制造、封测环节中，真正门槛最高的是芯片制造。 所以全球真正掌握10nm以下芯片制造技术的厂商，屈指可数，估计也就只有四家，分别是台积电、三星、intel和中芯。 至于其它晶圆厂，没有能力和信心进入10nm以下，比如格芯、联电几年前就表态，不进入10nm以下工艺

目前几乎所有的芯片制造技术，均是基于光刻工艺来的。 而光刻工艺中，最重要的设备，就是光刻机。目前全球仅4家厂商，拥有前道光刻机生产能力，分别是荷兰的ASML、日本的佳能、尼康，中国的上海微电子。

快科技9月5日消息，据国内媒体报道称，ASML CEO公开回应了对华出口限制，他们会有更多应对措施（反击措施）。 荷兰计算机芯片设备供应商ASML首席执行官Christophe Fouquet当地时

?光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。 自1961年第一台光刻机诞生以来，光刻机经历了接触式→接近式→投影式的发展路线，如今以投影式中的步进扫描式光刻机为主流

近日，来自冲绳科学技术大学院大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一项革命性的极紫外（EUV）光刻技术，该技术不仅超越了现有半导体制造的界限，更预示着行业未来的新篇章。

巨人的阿喀琉斯之踵。 文丨华商韬略 美国时间8月2日，英特尔股价暴跌超过26%，市值更是跌破千亿美元历史关口。 2000年，英特尔以3000亿美元的市值傲立科技浪潮之巅。20多年过去，英特尔

以光为刀的光刻技术 引文 光的出现以及每一次发展都是人类社会的一大进步：地球上出现的

“ 光刻作为半导体中的关键工艺，其中包括3大步骤的工艺：涂胶、曝光、显影。三个步骤有一个异常，整个光刻工艺都需要返工处理，因此现场异常的处理显得尤为关键”

俄罗斯联邦工业和贸易部副部长 Vasily Shpak 表示已研发成功350纳米光刻机，接下来是希望在2026年研发可以支持130纳米的光刻机，这意味着该国正在打破ASML在光刻机市场的垄断。

由于光刻机供应的问题，中国芯片行业正在想方设法解决问题，除了继续基于现有的硅基芯片技术发展之外，研发先进的芯片材料则是另一条提升先进芯片性能的途径，在这方面中国已走在世界前列。 第三代芯

美国现在甚至不想让ASML为已经卖给中国的光刻机提供售后维护服务，不过在ASML看来，这么做影响并不大，至少基本不会影响其收入。 Peter Wennink虽然从ASML CEO的位子上退了下来，但似乎更敢说话了

众所周知，芯片产业是门槛高，投资大，周期长的高复杂度，高技术含量的产业。 这种产业一般只有大企业玩的转，小企业因为限于资金等，很难有大作为，这也就意味着，芯片行业，产业集中度非常高，市场会集中在少部大企业手中

过去几年的半导体下行周期中，阿斯麦像一个避风港。从下游电子消费公司到上游晶圆代工厂，大多因为行业需求不振，业绩萎靡。但阿斯麦很稳，过去三年公司营收复合增长率19.7%。 周期只会推迟不会迟到，今年一季度，阿斯麦业绩暴雷